弊社が代理店をさせて頂いております、シエンタオミクロン社の「次世代 XPS」となる「HAXPES」のWEB講演会を開催させて頂きます。
ご興味ございますお客様はこの機会に是非ご参加をお願いいたします。
■HAXPESとは
従来のAl線源を用いたXPSよりも、より高強度のGa線源及び高エネルギーに
耐えうる検出器を用いたXPSにて、表層及びより深い領域を非破壊で分析する
事が可能な次世代システムとなります。
■本公演の対象となるお客様
- 先端材料分析、基礎研究を実施されており既存のXPSでご満足されていないお客様
- 放射光施設でHAXPESを利用されており、自社にてラボ装置を導入されたいお客様
■講演会概要について
硬X線光電子分光は従来の軟X線光電子分光と比較して、物質の反応する確率が低いゆえに信号強度が小さい問題がある一方、深い検出深度と多様な軌道選択性を持つために、物質表面から内部まで非破壊で化学状態観測が可能な有力な表面分析手法の一つです。
放射光技術の飛躍的な発展と共に、信号強度の問題が大幅に改善されたことで、近年では特に産業利用が活発になって参りました。
しかしながら放射光施設ではビームタイムの制限、最近の情勢からの移動制限等もあり、実験室系の硬X線光電子分光装置に対するニーズが急速な高まりを見せ普及が進んでおります。
本講演では、シエンタオミクロン社で開発した実験室系の硬X線光電子分光装置を実際に使用されている先生方の研究事例を通して、その有用性のご紹介する事を目的としております。
■Web講演会の日時
日程：5月25日（火） 15:45 開場 16:00 講演開始 18:00 講演終了
■講演会の流れ
- 司会進行と概要説明（日本語）：シエンタオミクロン日本社長 町田雅武氏
- HAXPES Labの紹介（英語）： シエンタオミクロン本社 ピーター・アマン氏
- 招待講演 ２名
– ヘンリーロイス研究所 ベン・F・スペンサー博士 （英語）
– 明治大学 小椋厚志教授
– HAXPES Labのアプリケーション事例紹介 - まとめ（英語）：シエンタオミクロン本社 マルクス・ルンドウェル氏
■参加について
ご興味ございましたら以下URLより登録をお願い申し上げます。
https://haxpes.vievex.app/
