ARCscan

高速・高感度・大面積のマクロ観察ツール
ARCscan Series

RE-Type for ナノインプリント
ME-Type for ウェハ欠陥
RE-Type for パネル／プリント

ARCscan　is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

• NIL 開発評価・改善
• NILモールド/製品評価
• モールド状態管理（離形剤 経時変化等）
• ウェハデフォーカス評価・改善
• 凹凸フィルム（レンズ、格子等）
• 金属凹凸検査

KEY FEATURES

• エッジ反射光　(RE-Type)
• ムラ定量化機能搭載（鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差　を表示）
• モールド劣化モニター機能搭載
• 超高感度モード搭載可（オプション）

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ	780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H) (ex.　コンパクト筺体サイズ）
撮像領域	150mm□（コンパクト筺体タイプ） 300mm□（ワイド筺体タイプ）
出力画像	B/W 8bit出力
撮像速度	Typ. 20mm/sec(反射光量に依存）
搭載可能サンプル 厚	t=～10.0mm（100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談）

ARCscan　is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

• SiC・GaN　等製品評価
• ウェハー表面エッチピット検査
• ウェハーそり・うねり表面状態観察
• ウェハー（粗）研削後の表面状態観察
• シャロースクラッチの観察評価
• スリップ検査

KEY FEATURES

• オフアキシス光学系散乱光利用タイプ　(ME-Type)
• ムラ定量化機能搭載（鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差　を表示）
• スリップ欠陥等10nmレベルの欠陥を検出
• 超高感度モード搭載可　（オプション）

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ	780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H) (ex.　コンパクト筺体サイズ）
撮像領域	150mm□（コンパクト筺体タイプ） 300mm□（ワイド筺体タイプ）
出力画像	B/W 8bit出力
撮像速度	Typ. 20mm/sec(反射光量に依存）
搭載可能サンプル 厚	t=～10.0mm（100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談）

＜SiCウェハの欠陥＞

ARCscan　is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

• TFTパターンムラ（斑点、デフォーカス、ピン跡、オーバーコート、基板表面パターン班、他）
• ＣＦパターンムラ（ＢＭパターン、スピンコート班、他）
• 有機ＥＬ基板
• 電子ペーパー
• フィルム（プリズム、マイクロレンズ、レンチキュラー、低反射シート、他）
• 太陽電池

KEY FEATURES

• エッジ反射光　(RE-Type)
• ムラ定量化機能搭載（鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差を表示）
• モールド劣化モニター機能搭載
• 超高感度モード搭載可　（オプション）/li>

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ	780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H) (ex.　コンパクト筺体サイズ）
撮像領域	150mm□（コンパクト筺体タイプ） 300mm□（ワイド筺体タイプ）
出力画像	B/W 8bit出力
撮像速度	Typ. 20mm/sec(反射光量に依存）
搭載可能サンプル 厚	t=～10.0mm（100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談）

※　大型パネル、インラインについては別途ご相談

複数のレイヤーの異なるパターン斑（ばらつき）を撮像条件を変えて検査