カテゴリー その他検査装置 /高速・高感度・大面積のマクロ観察ツール SMICS/スミックス

ARCscan

SMICS

高速・高感度・大面積のマクロ観察ツール
ARCscan Series


RE-Type for ナノインプリント
ME-Type for ウェハ欠陥
RE-Type for パネル/プリント

ARCscan series RE-Type
ARCscan is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

  • NIL 開発評価・改善
  • NILモールド/製品評価
  • モールド状態管理(離形剤 経時変化等)
  • ウェハデフォーカス評価・改善
  • 凹凸フィルム(レンズ、格子等)
  • 金属凹凸検査

KEY FEATURES

  • エッジ反射光 (RE-Type)
  • ムラ定量化機能搭載(鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差 を表示)
  • モールド劣化モニター機能搭載
  • 超高感度モード搭載可(オプション)

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ 780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H)
(ex. コンパクト筺体サイズ)
撮像領域 150mm□(コンパクト筺体タイプ)
300mm□(ワイド筺体タイプ)
出力画像 B/W 8bit出力
撮像速度 Typ. 20mm/sec(反射光量に依存)
搭載可能サンプル 厚 t=~10.0mm(100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談)
ウェハー正逆差による
パターンムラの可視化

ARCscan series RE-Type
ARCscan is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

  • SiC・GaN 等製品評価
  • ウェハー表面エッチピット検査
  • ウェハーそり・うねり表面状態観察
  • ウェハー(粗)研削後の表面状態観察
  • シャロースクラッチの観察評価
  • スリップ検査

KEY FEATURES

  • オフアキシス光学系散乱光利用タイプ (ME-Type)
  • ムラ定量化機能搭載(鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差 を表示)
  • スリップ欠陥等10nmレベルの欠陥を検出
  • 超高感度モード搭載可 (オプション)

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ 780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H)
(ex. コンパクト筺体サイズ)
撮像領域 150mm□(コンパクト筺体タイプ)
300mm□(ワイド筺体タイプ)
出力画像 B/W 8bit出力
撮像速度 Typ. 20mm/sec(反射光量に依存)
搭載可能サンプル 厚 t=~10.0mm(100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談)

<SiCウェハの欠陥>

ARCscan series RE-Type
ARCscan is the best way as Macro Monitoring for patterned substrate with high sensitivity and easy operation

APPLICATIONS

  • TFTパターンムラ(斑点、デフォーカス、ピン跡、オーバーコート、基板表面パターン班、他)
  • CFパターンムラ(BMパターン、スピンコート班、他)
  • 有機EL基板
  • 電子ペーパー
  • フィルム(プリズム、マイクロレンズ、レンチキュラー、低反射シート、他)
  • 太陽電池

KEY FEATURES

  • エッジ反射光 (RE-Type)
  • ムラ定量化機能搭載(鳥瞰図、エリアごとの輝度平均、標準変差を表示)
  • モールド劣化モニター機能搭載
  • 超高感度モード搭載可 (オプション)/li>

MAIN SPECIFICATIONS

装置サイズ 780mm(W) x 1200mm(D) x 1850mm(H)
(ex. コンパクト筺体サイズ)
撮像領域 150mm□(コンパクト筺体タイプ)
300mm□(ワイド筺体タイプ)
出力画像 B/W 8bit出力
撮像速度 Typ. 20mm/sec(反射光量に依存)
搭載可能サンプル 厚 t=~10.0mm(100μm以下の薄膜フィルムは、別途御相談)

※ 大型パネル、インラインについては別途ご相談



TFT パターンデフォーカスムラ

TFT ピン跡ムラ



複数のレイヤーの異なるパターン斑(ばらつき)を撮像条件を変えて検査


カラーフィルタのスピンコート斑

BMパターンのムラ検査
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