Precision apparatus special trading company 
 
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300mmまでのウエハに対応した全反射蛍光X線装置。
半導体ウエハ等の金属汚染を評価する装置です。

測定元素Na〜Uまでを対象とし、マッピング機能及びエッジ測定機能を搭載。
新開発の角度調整機構により高スループットを実現しております。

プロセス前後の半導体ウエハ金属汚染確認。
ガラス基板等のパーティクル系金属汚染確認。


多元素同時測定
NaからUまでの元素を同時に測定できます
非破壊分析
X線による非破壊の測定です
簡単測定
測定からレポート作成まで自動で可能
マッピング機能
面内汚染分布の測定が可能です
エッジ測定
エッジ部の測定に対応しています
高スループット
新開発の角度調整機構により、高スループットを実現
低ランニングコスト
封入型X線管球と窒素レスX線検出器の組合せ
省スペース
サイズ約2.4m2?/ 〜12インチウエハ対応


 

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株式会社菱光社
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