露光機　露光装置ミニステッパー

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1.深いフォーカスマージン: MEMSに適したN Aの投影レンズを採用し、深いフォーカスマージンを実現。厚膜レジストや高段差に対応します。また、ステッパー方式のメリットとウエハ吸着機構の最適化により、反りの大きなウエハでの歩留りを向上します。
2.高精度な裏面アライメント（OP): ウエハ裏面のアライメントマークに合わせて、非常に高精度な 0.8μm（lXl+3σ）のアライメント精度で露光可能。
3.NSRとのミックスアンドマッチ: NES2-h06は、ニコンNSRの一括系と同等の露光範囲 22mm×22mm。また、NSRで使用されるFIAマーク（XY同時計測対応版）にてアライメント可能。ミックスアンドマッチを容易といたしました。

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ミニステッパーNES2-h04/h06

1.MEMSに最適化した新開発の投影レンズ: 解像度2.0μm L/S、露光エリア15mm×15mmと、MEMS製造に求められる高性能を実現。同時に、NA（開口数）の最適化により非常に深いフォーカスマージンを確保。厚膜レジストや高段差の対応を可能にしました。
2.世界最小のフットプリントを実現: 制御系を本体に組み込むことにより、1.3㎡（オプションなしの時）という驚異的に小さなフットプリントを実現。ウェハローダ付きの場合でも1.9㎡となり、クリーンルームスペースの利用効率向上と、ランニングコストの低減に寄与します。
3.裏面アライメント機構搭載可能（オプション）: ウェハ裏面のアライメントマークに合わせて、0.8μm（I X I +3 σ）のアライメント精度での露光が可能です。

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ミニステッパー NES1-h04

●スループットを飛躍的に向上: ステージ制御方式の見直しによるさらなる高速化、新設計の非常に明るい照明系の採用による投影面照度アップやフラッシュアップ光源の採用など、基本性能を大幅に改良し、結果としてトータルスループットを大きく向上させました。
●新開発の投影レンズを搭載: NA0.16、φ11と、これまでより露光エリアの大きい新投影レンズを搭載しました。オフアクシスアライメント方式採用により投影レンズの設計自由度を確保し、お客様のご希望に応じたカスタム仕様の投影レンズも製作いたします。
●オフアクシスアライメント方式を採用: 専用アライメント光学系の搭載、ボディの高剛性化により、これまでと同等以上のアライメント精度を確保しています。さらに、TTR方式と比較してレチクルデザインの制約が少なくなりました。
●イージーオペレーション: OSにWindows®XPを採用し、良好な操作性を実現。PrAシリーズ露光装置と同様のメニュー構成により、同シリーズをすでにお使いいただいているお客様にも違和感なく操作いただけます。
●コンパクトなサイズで省スペース: ご好評いただいているPrAシリーズ露光装置と同様、非常にコンパクトな設計となっています。
●設置、立ち上げ時間を短縮

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縮小投影露光装置 NES1-h02

●TTR※方式による高精度アライメント: 更に観察時にNAを大きく切り替え、アライメント精度を向上させています。
※TTR：Through The Reticle
●トータルスループットが大幅向上: ステージ高速化に加え、処理・制御のスピードアップ、最適化によりスループットが大幅に向上しました。
●イージーオペレーション: OSにWindows®XPを採用し、良好な操作性を実現。オペレータモード、エンジニアモードの切替により、基本操作から高度な操作までの習得が容易です。
●コンパクトなサイズで省スペース: コンパクトなサイズで高剛性を実現し、省スペースにも貢献しています。
●新設計のオートフォーカス方式を採用
●設置・立上げ時間を短縮: 設置から立上げ時に、特別な調整作業を必要としないため、時間が短縮でき、ライン導入が容易です。

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レンズ縮小投影露光装置 PrA II

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