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インプリント工程への提案をテーマにレンズ設計・製造展'09に出展致します!

開催期間:
2009年4月22日(水)〜24日(金)10:00〜17:00
会   場: パシフィコ横浜(HP) ブースNo. B-31

【出展製品紹介】
内部歪み分布を瞬時に可視化、定量評価が可能!!

【仕様】
測定範囲:1〜1/4λ(130nm)
偏光画像画素数:1120×868pixel
測定波長:520nm
繰り返し精度:±0.5nm以下
【用途】
・WLCに用いるガラスウェハの内部歪み
・射出成型時の最適な射出速度や保圧条件の割り出し
・内部に発生するウェルドラインの有無

歪みの大きさを色分け出来、
偏光方向を線で可視化出来ます。


形状測定はポイントフォーカシング方式 ISO25178-605でエントリー。
ステージ走査型で、顕微鏡視野内に測定範囲が限定されません。

【仕様】
−形状−
XY測定範囲:100mm
Z測定範囲:10mm
AF軸送り精度:(0.3+0.5L/10)μm以内
AF軸再現性:σ=0.03μm以内
XY送り精度:(2+4L/1000)μm以内(スケール有)
−光学特性評価機能−
有効焦点距離
バックフォーカス(BFL)
集光位置
透過率
コマ・歪曲収差
MTF等

【用途】
・WLC工程
スタンパやインプリント基板上のレンズ形状、粗さ、ガラスウェハや厚膜表面の反り、
アライメントマークを用いた座標系に対する個々のレンズの位置精度
・射出成型時に表面に発生したウェルドラインやひけ
・半導体、MEMS、工具(バイト、エンドミル)、各種金型や射出成型部品、輪郭形状測定



驚きのローコストを実現したUV式インプリント装置

【仕様】
UV光源波長:375±5nm(光量固定)
押圧機構:エアーシリンダー
転写力:最大400N(約40kgf)
圧力調整、速度調整機構有
対応ワーク:ガラス、樹脂基板、樹脂フィルムシート

 
【WLCの製造工程の流れ】

ガラスウェハの内部歪み定量化用途にPA-100
ガラスウェハの反り測定用途にNH-3MA

スピンコート後の厚膜の反り測定用途にNH-3MA

   
 

アライメントマークに対する個別レンズの
位置精度確認用途にNH-3MA

実際のUV式インプリント成型及びその条件出しに
EUN-4200

 

 

 
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